Челябинская компания совместно с группой докторов и инженеров разработала новый дентальный имплантат

Резидент «IT-Park74», регионального оператора фонда «Сколково» в Челябинске, компания «НС ТЕХНОЛОГИЯ» в рамках «I УРАЛЬСКОГО ЦИФРОВОГО СИМПОЗИУМА» презентовали свой новейший дентальный имплантат «Synthes Pro», а также новый бренд «Dental Synthesis» который придет на смену ранее использующемуся бренду «NCT.

Новый имплантат отличают следующие характеристики:

  • Меньше стресса и бережное отношение к костной ткани за счет скошенного плеча.
  • Корневидная форма дизайна имплантата.
  • Инновационная поверхность NitroEx (комбинированно кислотное травление), что снижает риск отторжения.
  • Изготовлен из нано структурированного титана с прочностью на разрыв 1300 Мпа.
  • В комплексе все характеристики позволяют сократить срок реабилитации пациента. Имплант совместим со многими известными имплантационными системами, что облегчает работу доктора и экономит материальные ресурсы для клиник.

Переход на новый уровень стал возможен благодаря огромной внутренней работе в 2021 году. Были созданы представительства в Челябинской, Свердловской, Московской, Белгородской, Воронежской Курской, Липецкой, Тамбовской областях, Республике Татарстан и Ставропольском крае, пройдена сертификация «EC Certificate full quality assurance system». Регистрационное удостоверение на имплантат и производство аттестовано по стандарту ISO 13485. Все это формирует новую философию компании воплощенную в слоган «Dental Synthesis — Объединение науки и практики».

Уникальность продукции компании «НС ТЕХНОЛОГИЯ» заключается в использовании наноструктурированного титана и алмазоподобной углеродной плёнки. Благодаря этому изделия обладают низким риском отторжения при фиксации в костном ложе. А запатентованная форма имплантата, сочетающая в себе самые современные характеристики, наиболее близка к  оригинальной зубной ткани.

С 2020 года «НС ТЕХНОЛОГИЯ» является резидентом фонда «Сколково».

 

Добавить комментарий

Ваш адрес email не будет опубликован. Обязательные поля помечены *